Высокотемпературное вспучивание парами воды используют при производстве вспученного перлита, вермикулита, растворимого стекла и частично глиносодержа- щих материалов. Вспучивание газообразованием предполагает, что выделяющийся в процессе газовыделения газ остается в массе и вслучивает ее, образуя ячеистую структуру.- Формирование такой структуры включает три стадии: зарождение газового пузырька, рост пузырька, стабилизация размеров и местоположения газового пузырька.

Зарождается газовый пузырек на поверхности алюминиевой частицы или другого газообразователя, причем газ, как правило, начинает выделяться не со всей поверхности газообразователя, а лишь иа участках поверхности с повышенной активностью. Для алюминиевой пудры — это трещины в оксидной пленке, возникающие вследствие больших объемных изменений при послойном окислении металла.

Рост газового пузырька и образование поры представляют собой сложный процесс, в котором формирование единичной газовой поры происходит ие от одной частицы газообразователя, а от их совокупности.

Тонкодисперсные газообразователи имеют малую массу, и поэтому объем газового пузырька очень мал. Так, масса частицы алюминиевой пудры равна примерно 4-IO^-10 г, одна такая частица может образовать пору объемом 6- Ю^-7 ом³, т. е. диаметром 1 • 10~² см. Для образования одной газовой поры диаметром 1 мм необходимо участие в реакции IO³ частиц алюминиевой пудры. Естественно, что образование таких конгломератов в маtee ' нереально. Поэтому рост и образование газовой поры происходят вследствие двух одновременно протекающих явлений: во-первых, за счет коалесценции мельчайших газовых пузырьков ,при их росте, а во-вторых, путем втягивания частиц пудры в растущую газовую пору. Оба эти процесса становятся возможными прежде всего потому, что расстояние между частицами в массе весьма мало: 4-10-3-1-10"⁴ ем.